本标准物质主要用于薄膜厚度测量和表面化学分析（深度剖析）仪器设备的检定/校准、分析方法的确认与评价、技术仲裁测量以及测量质量控制等。
一、样品制备
本标准物质系通过原子层沉积技术在单晶硅基底上生长二氧化硅纳米薄膜成批制备而成，切割形成正方形片状样品（10mm×10mm×0.7mm）。
二、溯源性及定值方法
本标准物质采用两种国际公认的不同原理方法（掠入射 X 射线反射测量和椭偏测量）进行定值。通过使用满足计量学特性要求的测量方法和计量器具，保证其溯源性。
三、特性量值及不确定度
|
编号
|
名称
|
特性量
|
标准值（nm）
|
扩展不确定度（nm）(k=2)
|
|
GBW13957
|
二氧化硅薄膜膜厚标准物质
|
SiO2层
|
12.56
|
0.30
|
|
GBW13958
|
二氧化硅薄膜膜厚标准物质
|
SiO2层
|
20.26
|
0.36
|
|
GBW13959
|
二氧化硅薄膜膜厚标准物质
|
SiO2层
|
57.62
|
0.50
|
|
GBW13960
|
二氧化硅薄膜膜厚标准物质
|
SiO2层
|
106.1
|
1.7
|
|
GBW13961
|
氮化硅薄膜膜厚标准物质
|
Si3N4层
|
51.66
|
0.28
|
|
GBW13962
|
氮化硅薄膜膜厚标准物质
|
Si3N4层
|
104.91
|
0.32
|
|
GBW13963
|
氮化硅薄膜膜厚标准物质
|
Si3N4层
|
151.8
|
1.0
|
|
GBW13964
|
氮化硅薄膜膜厚标准物质
|
Si3N4层
|
205.0
|
1.5
|
|
GBW13965
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
9.92
|
0.40
|
|
GBW13966
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
16.24
|
0.28
|
|
GBW13967
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
21.70
|
0.42
|
|
GBW13968
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
25.96
|
0.30
|
|
GBW13969
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
35.75
|
0.48
|
|
GBW13970
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
45.61
|
0.35
|
|
GBW13971
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
50.96
|
0.85
|
|
GBW13972
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
76.80
|
1.30
|
|
GBW13973
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
102.2
|
2.6
|
|
GBW13974
|
二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质
|
|
119.1
|
1.6
|
|
GBW13979
|
氧化铪薄膜膜厚标准物质
|
HfO2层
|
1.07
|
0.04
|
|
GBW13980
|
氧化铪薄膜膜厚标准物质
|
HfO2层
|
4.73
|
0.04
|
|
GBW13981
|
氧化铪薄膜膜厚标准物质
|
HfO2层
|
9.37
|
0.06
|
标准值不确定度由两种不同原理方法定值过程引入的不确定度以及标准物质稳定性和均匀性引入的不确定度等组成。
四、均匀性检验及稳定性考察
参照 JJF 1343-2012《标准物质定值的通用原则及统计学原理》，随机抽取标准物质样品 15 片，采用椭偏测量检验标准物质的均匀性，单因素方差分析结果表明标准物质均匀性良好。本标准物质自定值日期起，在规定的贮存条件下有效期 2 年。研制单位将继续跟踪监测本标准物质的稳定性。在有效期内，如果特性量值发生重大变化需重新定值，将及时通知购买者。
五、包装、储存及使用
本标准物质固定放置在氟化聚丙烯圆盒中，圆盒真空密封包装于铝箔袋内，每盒 1 片。贮存在阴凉干燥的室温环境条件下，运输过程中必须保持包装的完整，使用过程中必须保持样品表面清洁。