本标准物质可用于透射电子显微镜校准及其纳米线宽分析方法确认与评价，以及下一级标准物质的量值溯源等。

一、 样品制备

本标准物质的原材料为单晶硅、二氧化硅和多晶硅，采用多层膜沉积技术将镀膜厚度转化为线条宽度，并采用双束聚焦离子束系统（FIB）制备为适用于透射电镜的平面结构纳米线宽标准物质。

二、 溯源性及定值方法

采用透射电子显微镜，对标准物质中的线宽结构与其内禀的硅晶格标尺进行同时成像，使用标准物质中的硅晶格标尺对线宽进行定值，测量结果可直接溯源至硅晶格常数基准。通过使用满足计量学特性要求的测量方法和计量器具保证其量值的溯源性。

三、 特性量值及不确定度（纳米线宽系列相关产品如下）

标准值的不确定度考虑了由定值、样品均匀性和稳定性引入的分量。

四、 均匀性及稳定性评估

参照 JJF1343-2022 国家计量技术规范，采用单因素方差分析方法，按照分层随机抽样原则对全部样品进行均匀性评估，评估结果表明，样品均匀性良好；采用线性模型方法，对样品进行稳定性评估，评估结果表明，样品稳定性良好。本标准物质自定值日期起有效期一年，研制单位将继续跟踪监测该标准物质的稳定性，有效期内如发现量值变化，将及时通知用户。

五、 包装、贮存及使用

本标准物质为固体薄片状，固定在 FIB 载网齿针上，包装为高弹膜盒，每盒装为一片。

本标准物质建议贮存在洁净、恒温（20±5）℃、恒湿（50±10）%RH 环境中。

本标准物质应在洁净环境中启用，防止撞击，使用透射电子显微镜专用镊子夹取 FIB 载网边缘，请勿触碰载网齿针处。线宽边界定义为二氧化硅层与铂层的半强度位置处，线宽取值位置为半高宽处，在该前提下本标准物质的特性值及其不确定度才是有效的。线宽引导图与结构图详见证书。